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    【集萃網(wǎng)觀察】隨著排放標(biāo)準(zhǔn)的日益嚴(yán)格，各國學(xué)者在印染廢水的處理技術(shù)方面進(jìn)行了深人的探索。相信隨著科學(xué)技術(shù)的不斷進(jìn)步，印染廢水的處理工藝將逐漸完善，投資省、運行費用低、操作簡單的處理技術(shù)將給印染廢水的處理帶來新的希望。經(jīng)過我們的對水處理技術(shù)的了解，我們認(rèn)為以下的技術(shù)已經(jīng)開始或?qū)�來必將在紡織印染廢水處理上占有重要的一席之地。

    1 光化學(xué)氧化法

    光化學(xué)氧化法由于其反應(yīng)條件溫和(常溫、常壓)、氧化能力強和速度快等優(yōu)點。光化學(xué)氧化可分為光分解、光敏化氧化、光激發(fā)氧化和光催化氧化四種。目前研究和應(yīng)用較多的是光催化氧化法。

    光催化氧化技術(shù)能有效地破壞許多結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的生物難降解的有機污染物，具有節(jié)能高效、污染物降解徹底等優(yōu)點，幾乎所有的有機物在光催化作用下可以完全氧化為CO2、H2O等簡單無機物。但是光催化氧化方法對高濃度廢水處理效果不太理想。

    關(guān)于光催化氧化降解染料的研究主要集中在對光催化劑的研究上。其中，TiO2化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、難溶無毒、成本低，是理想的光催化劑。傳統(tǒng)的粉末型TiO2光催化劑由于存在分離困難和不適合流動體系等缺點，難以在實際中應(yīng)用。近年來，TiO2光催化劑的攙雜化、改性化成為研究的熱點。

    2 膜分離技術(shù)

    膜分離技術(shù)處理印染廢水是通過對廢水中的污染物的分離、濃縮、回收而達(dá)到廢水處理目的。具有不產(chǎn)生二次污染、能耗低、可循環(huán)使用、廢水可直接回用等特點。膜分離技術(shù)雖然具有如此多的優(yōu)點，但也存在著尚待解決的問題，如膜污染、膜通量、膜清洗、以及膜材質(zhì)的抗酸堿、耐腐蝕性等問題，所以，現(xiàn)階段運用單一的膜分離技術(shù)處理印染廢水，回收純凈染料，還存在著技術(shù)經(jīng)濟等一系列問題。現(xiàn)在膜處理技術(shù)主要有超濾膜，納米濾膜和反滲透膜。Jian-JunQin等運用納米膜處理印染廢水，染料的去除率達(dá)99．1%，且70%的印染廢水可以得到回用。胡萃等認(rèn)為膜處理對印染廢水中的無機鹽和COD都有很好的去除作用。

    當(dāng)前關(guān)于膜分離技術(shù)的研究主要集中在其與其他處理技術(shù)的結(jié)合方面，形成了廢水深度處理及回收利用極有前途的物理化學(xué)處理新技術(shù)。S．BarredoDamas等研究了臭氧氧化一物理化學(xué)處理一納米膜處理技術(shù)。朱樂輝等研究了混凝沉淀一曝氣生物濾池一納米材料復(fù)合膜技術(shù)在印染廢水回用處理中的應(yīng)用。李思敏等研究了雙效混凝一兼性水解-SBR組合工藝處理印染廢水。

    3 超聲波技術(shù)

    利用超聲波可降解水中的化學(xué)污染物，尤其是難降解的有機污染物。它集高級氧化技術(shù)、焚燒、超臨界水氧化等多種水處理技術(shù)的特點于一身，降解條件溫和、降解速度快、適用范圍廣，可以單獨或與其它水處理技術(shù)聯(lián)合使用。該方法的原理是廢水經(jīng)調(diào)節(jié)池加人選定的絮凝劑后進(jìn)入氣波振室，在額定的震蕩頻率的激烈震蕩下，廢水中的一部分有機物被開鍵成為小分子，在加速水分子的熱運動下，絮凝劑迅速絮凝，廢水中色度、COD、苯胺濃度等隨之下降，起到降低廢水中有機物濃度的作用。目前超聲技術(shù)在水處理上的研究已取得了較大的成果，但絕大部分的研究都還局限于實驗室水平上。

    Ge．J等認(rèn)為超聲波的引人能夠有效加快染料的脫色和礦化速率。Tauber等發(fā)現(xiàn)超聲與漆酶對酸性橙52的脫色具有協(xié)同效應(yīng)。Okitsu等研究了超聲對偶氮染料的降解。沈政贏等研究表明超聲波可以加速微生物對A07降解產(chǎn)物的進(jìn)一步降解。

    4 高能物理法

    高能物理法是一種新的水處理技術(shù)，當(dāng)高能粒子束轟擊水溶液時，水分子發(fā)生激發(fā)和電離，生成離子、激發(fā)分子、次級電子，這些輻射產(chǎn)物在向周圍介質(zhì)擴散前會相互作用產(chǎn)生反應(yīng)能力極強的物質(zhì)HO?自由基和H原子，與有機物質(zhì)發(fā)生作用而使其分解。高能物理法處理印染廢水具有有機物的去除率高、設(shè)備占地小、操作簡單、用來產(chǎn)生高能粒子的裝置昂貴、技術(shù)要求高、能耗大、能量利用率不高等特點。若要真正投入實際運行，還需進(jìn)行大量的研究工作。

    來源: 印染在線